반도체 핵심 EUV 장비 도입 34→9일로 단축

정부가 반도체 공정의 핵심인 극자외선(EUV) 장비의 도입 절차를 34일에서 9일로 약 25일 단축한다.2일 산업통상부에 따르면 정부는 이날 국무회의에서 이를 위한 고압가스 안전관리법 시행령 일부개정안을 의결했다. 내주 공포 절차를 거쳐 시행될 예정이다.이번 조치는 인공지능(AI) 반도체 수요 확대에 맞춰 첨단 생산라인 투자를 늘리고 있는 삼성전자·SK하...