인텔, ‘하이NA’ EUV 실전 배치하며 차세대 파운드리 ‘속도전’… 삼성전자는 신중

인텔이 세계 최초로 차세대 노광장비인 하이NA(고개구율) 극자외선(EUV) 노광장비를 양산 라인에 투입, 고객사향 제품 출하까지 성공한 것으로 전해졌다. 해당 장비가 적용된 공정은 2나노급으로 불리는 ‘인텔 18A’다. 인텔은 1.4나노급 공정 ’14A’까지 이 장비를 확대 적용한다는 계획인 것으로 알려졌다.