반도체 EUV 장비 도입, 25일→9일로 단축

우리나라 반도체 초격차 경쟁력을 견인할 극자외선(EUV) 노광장비의 국내 도입 절차가 대폭 간소화된다. 첨단 생산라인 구축에 속도를 내야 하는 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 주요 반도체 기업들의 비용 부담이 줄고 공정 가동 시점도 앞당겨질 전망이다. 산업통상부는 2일 국무회의에서 반도체 제조 장비에 대한 규제를 합리화하는 내용의 '고압가스 안전관리법 시행령' 일부개정안이 의결됐다고 밝혔다. 개정안의 핵심은 그동안 '고압가스 일반제조시설'로 묶